高真空管式退火爐

　　此管式真空系統採用渦輪分子幫浦，其背景真空值可維持在5 x 10^-7 torr以下,管內溫度可達1200攝氏度，配有三支質量流量計，可通三種氣體進行化學氣相沉積製程，亦可進行高真空或保護氣氛下時效處理。