陳敏璋

  • 職稱: 教授
  • 電話: 02-33665301
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  • 辦公室: 二號館338
  • 研究室: 奈米電子光電材料實驗室(二號館301)
  • 學歷:

    1995/09-2001/06 國立台灣大學光電工程研究所博士

    1991/09-1995/06 國立台灣大學電機工程學系學士

  • 研究摘要:

    近年來材料與元件之發展已進入原子尺度的範圍,原子層沉積(Atomic Layer Deposition,ALD)技術可精確控制單一原子層厚度之薄膜,為現今最先進之奈米材料製備技術之一。ALD技術具有許多獨特的優點,例如:原子級精密厚度與材料成份之控制、極高的表面覆蓋能力、極高的均勻度、低缺陷密度、良好的界面品質、製程穩定度與重複度高、以及材料沉積溫度較低等等。本實驗室專注於ALD技術及其廣泛的應用,研究開發奈米電子、奈米表面電漿子、以及奈米光電之材料與元件, 並探討在原子尺度的材料和元件之特性與物理。

  • 研究主題:

    可點擊圖片顯示原始尺寸

  • 主要經歷:

    2001/07-2004/07 中央研究院 應用科學研究中心 博士後研究

  • 代表著作:

    個人著作-陳敏璋教授