3/17專題演講公告

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上層分類：系所公告

分類：演講

建立於 2014-03-12, 週三 15:10

最近更新於 2014-03-12, 週三 15:40

發佈於：2014-03-12, 週三 15:37

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演講人：呂正傑 副教授

演講題目：Solution-Processed Nanocrystal Memory

演講人：呂正傑 副教授

演講題目：Solution-Processed Nanocrystal Memory

演講時間：103.3.17 10:20~12:10

演講地點：工綜館203室

   An all-solution processed metal–oxide–semiconductor (MOS) capacitor structure containing gold (Au) nanoparticles (NPs) within HfO₂ high-κ oxide has been successfully fabricated through a spin-coating method. The ultra-thin (<10 nm) HfO₂ high-κ tunnel oxide layer was prepared by sol-gel process and showed good electrical properties, which were critical to superior memory property of the MOS structure. The colloidal synthesized Au NPs (3-5 nm) were self-assembled to 3-aminopropyltrimethoxysilane (APTMS) modified HfO₂ tunnel oxide. With the spin coating process, Au NPs can be fabricated ontoHfO₂ with a high packing density of ~1×10¹²cm^-2 in a short processing time. Finally, aSi/HfO₂/Au NPs/HfO₂ memory structure was constructed after the substrate had been covered with a sol-gel-derived HfO₂ control oxide layer (~13 nm). This all-solution processed MOS structure showed good memory effect and retention properties. This study indicates that it is appropriate to utilize the spin coating process in nanocrystal memory applications.

畢業學校	國別	主修學門系所	學位
國立清華大學	中華民國	材料系	博士
國立清華大學	中華民國	材料系	碩士
國立清華大學	中華民國	材料系	學士

服務機關	服務部門	職稱
現職:國立高雄大學	化學工程及材料工程學系	副教授
經歷:
國立高雄大學	化學工程及材料工程學系	助理教授
國家奈米元件實驗室	薄膜摻雜組	副研究員
國家奈米元件實驗室	薄膜摻雜組	助理研究員