4/22專題演講公告

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上層分類：系所公告

分類：演講

建立於 2013-04-16, 週二 01:10

最近更新於 2013-10-23, 週三 17:22

發佈於：2013-04-16, 週二 17:21

點擊數：2327

日期：2013/04/22（星期一）
時間：自10時20分至12時10分
演講地點(地址)：工綜館B03

 

日期：2013/04/22（星期一）

時間：自10時20分至12時10分

演講地點(地址)：工綜館B03

演講者：呂福興 教授

演講者服務單位：中興大學材料科學與工程學系暨研究所

演講題目：
Air-based sputtering deposition of nitride, oxynitride, and N-doped oxide thin films
摘要:
Air was employed as a reactive gas in the air/Ar gaseous mixture for sputtering to produce nitride, oxynitride,and nitrogen-doped oxide thin films. Here, TiN, TiNxOy, and N-doped TiOx is selected as a model system for the study.Air-based deposition conducted in a low-vacuum base pressure environment can reduce substantially the overall processing time. Processing windows of the aforementioned films prepared by the air-based deposition at different aircontents and sputtering powers were determined. Tailoring the air content during sputtering yielded not only the singlelayer but the multilayer consisting of these different coatings. Kinetically-favorable reactions occur at low air contents in such plasma environment, leading to the formation of titanium nitride and oxynitride films while thermodynamically-controlled reactions predominate at higher air contents, yielding the formation of titanium oxide films.

個人學經歷：

學歷
畢／肄業學校	國別	主修學門系所	學位	起訖年月
康乃爾大學	美國	材料科學與工程	博士	1989/01至1994/01
(Cornell University)
德拉瓦大學	美國	材料科學	碩士	1986/09至1988/12
(University of Delaware)
國立清華大學	中華民國	材料科學與工程	學士	1977/09至1981/06

 

現職及與專長相關之經歷

服務機關	服務部門／系所	職稱	起訖年月
現職：中興大學	教務處	教務長	2011/08~
	材料科學與工程學系	教授	2002/08~
經歷：中興大學	研究發展處	副研發長	2009/08~2011/07
中興大學	材料科學與工程學系	系主任	2005/08~2008/07
中興大學	工學院工程科技中心	組長	2000/08~2002/07
中興大學	材料工程學系	副教授	1994/08~2002/07
美國康乃爾大學	材料科學與工程系	博士後研究員	1994/01~1994/07
工研院電子工業研究所	品管部	助理工程師	1983/09~1986/08