B. 近場光學寫入－磁感應讀取之光碟紀錄薄膜的研究

 研究方向：

   開發適合 SIL光學寫入/GMR或TMR磁頭讀取的記錄層材料

   GMR磁頭靈敏度為一般傳統感應式薄膜磁頭的3~4倍之多，而SIL的NA可達1.6以上；結合近場光學寫入使磁域縮小的優點、和巨磁阻磁頭具高解析的靈敏性，將可大幅提升碟片的記錄密度，發展出新型的記錄方式。本研究將尋找合適的稀土過渡金屬(RE-TM)合金薄膜，以開發更高記錄密度的新材料。

研究成果:

    CoTbPt單層近場光學寫入-磁感應讀取之紀錄薄膜研製

(a) Co₇₅Tb_22.5Pt_2.5薄膜的TEM明視野照片  (b) TEM電子繞射圖。

Co₇₅Tb_22.5Pt_2.5薄膜之M-H loop，外加磁場垂直膜面方向。

Co₇₅Tb_22.5Pt_2.5薄膜之Hc值與溫度的關係圖。

   CoTbAg單層近場光學寫入-磁感應讀取之紀錄薄膜研製

 Co_67.23Tb_30.52Ag_2.25薄膜之M-H loop，外加磁場垂直膜面方向。

 Co_67.23Tb_30.52Ag_2.25薄膜之Ms和Hc值與溫度的關係圖。

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